Відбитковий силіконовий матеріал "Сіеласт К" база
| dc.contributor.author | Голік, В.П. | |
| dc.contributor.author | Янішен, І.В. | |
| dc.contributor.author | Томілін, В.Г. | |
| dc.contributor.author | Довгопол, Ю.І. | |
| dc.contributor.author | Черняєв, С.В. | |
| dc.contributor.author | Перешивайлова, І.О. | |
| dc.date.accessioned | 2015-01-28T10:02:12Z | |
| dc.date.available | 2015-01-28T10:02:12Z | |
| dc.date.issued | 2011-02-10 | |
| dc.identifier.citation | Пат. 57188 Україна, МПК C08L 83/04 (2006.01). Відбитковий силіконовий матеріал "Сіеласт К" база / В. П. Голік, І. В. Янішен, В. Г. Томілін, Ю. І. Довгопол, С. В. Черняєв, І. О. Перешивайлова ; патентовласник Харківський національний медичний університет. – № 201010060 ; заявл. 13.08.2010 ; опубл. 10.02.2011, Бюл. № 3. – 5 с. | uk_UA |
| dc.identifier.uri | https://repo.knmu.edu.ua/handle/123456789/8671 | |
| dc.language.iso | uk | uk_UA |
| dc.publisher | Україна | uk_UA |
| dc.subject | "Сіеласт К" база | uk_UA |
| dc.title | Відбитковий силіконовий матеріал "Сіеласт К" база | uk_UA |
| dc.type | Patent | uk_UA |