Порівняння фізико-хімічних властивостей а-силіконових відбиткових матеріалів
| dc.contributor.author | Янішен, Ігор Володимирович | |
| dc.contributor.author | Yanishen, Ihor | |
| dc.contributor.author | Бугаєв, Владислав Юрійович | |
| dc.contributor.author | Bugayev, Vladyslav | |
| dc.date.accessioned | 2026-06-15T14:26:35Z | |
| dc.date.issued | 2025 | |
| dc.description.abstract | Усі досліджені А-силіконові відбиткові матеріали високої в’язкості (тип і) відповідають вимогам ISO. Матеріал «АСВМД» показав найкращі результати: найменша мікропористість (0,346%), найнижча лінійна усадка (1,23%) та гідрофобність (32,3%). Висока тиксотропність «АСВМД» (24,68%) забезпечує стабільність форми. Серед матеріалів типу III «АСВМД» продемонстрував найкращі показники: найнижча мікропористість (0,121%), лінійна усадка (1,19%) та гідрофобність (32,3%). Високий рівень тиксотропності (24,68%) робить цей матеріал найбільш стабільним, що підкреслює його перевагу для точних і стабільних відбитків. | |
| dc.identifier.citation | Янішен І. В. Порівняння фізико-хімічних властивостей а-силіконових відбиткових матеріалів / І. В. Янішен, В. Ю. Бугаєв // Інновації в стоматології. ─ 2025. ─ № 3. ─ С. 147–153. ─ DOI: https://doi.org/10.35220/2523-420X/2025.3.22. | |
| dc.identifier.issn | 2523-420X (Online) | |
| dc.identifier.uri | https://repo.knmu.edu.ua/handle/123456789/38197 | |
| dc.language.iso | uk | |
| dc.subject | a-силіконові відбиткові матеріали | |
| dc.subject | дефекти зубних рядів | |
| dc.subject | фізико-хімічні властивості | |
| dc.subject | відбитки | |
| dc.subject | 2026у/2025 | |
| dc.title | Порівняння фізико-хімічних властивостей а-силіконових відбиткових матеріалів | |
| dc.type | Article |