Порівняння фізико-хімічних властивостей а-силіконових відбиткових матеріалів
Loading...
Date
Authors
Янішен, Ігор Володимирович
Yanishen, Ihor
Бугаєв, Владислав Юрійович
Bugayev, Vladyslav
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Editor(s)
Abstract
Усі досліджені А-силіконові відбиткові матеріали високої в’язкості (тип і) відповідають вимогам ISO. Матеріал «АСВМД» показав найкращі результати: найменша мікропористість (0,346%), найнижча лінійна усадка (1,23%) та гідрофобність (32,3%). Висока тиксотропність «АСВМД» (24,68%) забезпечує стабільність форми. Серед матеріалів типу III «АСВМД» продемонстрував найкращі показники: найнижча мікропористість (0,121%), лінійна усадка (1,19%) та гідрофобність (32,3%). Високий рівень тиксотропності (24,68%) робить цей матеріал найбільш стабільним, що підкреслює його перевагу для точних і стабільних відбитків.
Description
Citation
Янішен І. В. Порівняння фізико-хімічних властивостей а-силіконових відбиткових матеріалів / І. В. Янішен, В. Ю. Бугаєв // Інновації в стоматології. ─ 2025. ─ № 3. ─ С. 147–153. ─ DOI: https://doi.org/10.35220/2523-420X/2025.3.22.