Стабільність аморфного стану оксиду ніобію при термопольовому впливі

Abstract

Для пасивації виробів медичного призначення досить часто використовуються анодні оксидні плівки (АОП) вентильних металів Ta, Nb, Ti, Zr з аморфною структурою. Стійкість таких оксидних покриттів до хімічної корозії досить висока навіть за незначної (0,5–1 нм) товщини [1]. Однак у разі електрохімічного корозійного процесу не менш суттєвим параметром є їх низька електрична провідність. З цього приводу слід брати до уваги, що дія на аморфну структуру АОП зовнішніх факторів збільшує вірогідність початку кристалізаційних процесів, які можуть спричинити суттєве підвищення її провідності. Тому метою роботи було дослідження параметрів кристалізації АОП ніобію за умови впливу високих електричних полів разом з дією термічного фактору або варіюванням товщини оксидної плівки.